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      Eksma UVFS激光線反射鏡-4

      簡要描述:Eksma UVFS激光線反射鏡-4
      高反射率(&amp;amp;amp;amp;amp;gt; 99%反射率)激光線鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。適用于UV,VIS和NIR激光器。

      • 產(chǎn)品品牌:Eksma
      • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
      • 更新時(shí)間:2026-02-07
      • 訪  問  量:1395

      詳細(xì)介紹

      品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
      組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

      Eksma UVFS激光線反射鏡-4


      高反射率(> 99%反射率)激光線鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。適用于UV,VIS和NIR激光器。

      Eksma UVFS激光線反射鏡-4

      產(chǎn)品介紹

      Ø高反射鏡(反射率> 99%)

      Ø設(shè)計(jì)用于45°或0°入射角

      Ø由紫外線等級(jí)的熔融石英制成

      Ø對(duì)于由BK7材料制成的激光線鏡,請(qǐng)單擊此處

      激光線反射鏡是介電反射鏡,在規(guī)定的激光波長下具有優(yōu)良性能。我們的激光鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。對(duì)于低波前畸變,低散射和高損傷閾值,鏡子亞表面的高拋光質(zhì)量也很重要。

      介電紫外熔融石英激光線鏡在UV,VIS和NIR光譜中涵蓋了廣泛的激光應(yīng)用。

      EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
      EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
      EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
      公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
      EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
      公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

       

      產(chǎn)品型號(hào)

      UVFS; ø50.8x8 mm

      型號(hào)

      D

      ET

      R, % (S+P)/2

      AOI

      波長

      應(yīng)用

      045-0240

      50.8 mm

      8 mm

      99.0%

      45°

      244-248 nm

      KrF

      045-0240-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.0%

      244-248 nm

      KrF

      045-0260

      50.8 mm

      8 mm

      99.0%

      45°

      262-266 nm

      Nd:YAG 4H

      045-0260-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.0%

      262-266 nm

      Nd:YAG 4H

      045-0266

      50.8 mm

      8 mm

      99.0%

      45°

      257-275 nm

      Ti:Sa 3H

      045-0266-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.0%

      257-275 nm

      Ti:Sa 3H

      045-0300

      50.8 mm

      8 mm

      99.2%

      45°

      308 nm

      XeCl

      045-0300-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.2%

      308 nm

      XeCl

      045-0325

      50.8 mm

      8 mm

      99.5%

      45°

      325 nm

      HeCd

      045-0325-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.8%

      325 nm

      HeCd

      045-0343

      50.8 mm

      8 mm

      99.5%

      45°

      333-353 nm

      Yb:KGW/KYW 3H

      045-0343-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.8%

      333-353 nm

      Yb:KGW/KYW 3H

      045-0347

      50.8 mm

      8 mm

      99.5%

      45°

      347 nm

      Ruby

      045-0347-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.8%

      347 nm

      Ruby

      045-0350

      50.8 mm

      8 mm

      99.5%

      45°

      351-361 nm

      Nd:YAG 3H

      045-0350-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.8%

      351-361 nm

      Nd:YAG 3H

      045-0350T12HHR

      50.8 mm

      12 mm

      99.9%

      45°

      351-361 nm

      Nd:YAG 3H

      045-0350T12HHR-i0

      50.8 mm

      12 mm

      99.9%

      351-361 nm

      Nd:YAG 3H

      045-0400

      50.8 mm

      8 mm

      99.5%

      45°

      380-420 nm

      Ti:Sa 2H

      045-0400-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.8%

      380-420 nm

      Ti:Sa 2H

      045-0515

      50.8 mm

      8 mm

      99.5%

      45°

      500-530 nm

      Yb:KGW/KYW 2H

      045-0515-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.8%

      500-530 nm

      Yb:KGW/KYW 2H

      045-0530

      50.8 mm

      8 mm

      99.5%

      45°

      527-532 nm

      Nd:YAG 2H

      045-0530-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.8%

      527-532 nm

      Nd:YAG 2H

      045-0530T12HHR

      50.8 mm

      12 mm

      99.9%

      45°

      527-532 nm

      Nd:YAG 2H

      045-0530T12HHR-i0

      50.8 mm

      12 mm

      99.9%

      527-532 nm

      Nd:YAG 2H

      045-0800

      50.8 mm

      8 mm

      99.5%

      45°

      760-840 nm

      Ti:Sa 1H

      045-0800-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.8%

      760-840 nm

      Ti:Sa 1H

      045-0800T12HHR

      50.8 mm

      12 mm

      99.9%

      45°

      760-840 nm

      Ti:Sa 1H

      045-0800T12HHR-i0

      50.8 mm

      12 mm

      99.9%

      760-840 nm

      Ti:Sa 1H

      045-1030

      50.8 mm

      8 mm

      99.5%

      45°

      1000-1060 nm

      Yb:KGW/KYW 1H

      045-1030-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.8%

      1000-1060 nm

      Yb:KGW/KYW 1H

      045-1030T12HHR

      50.8 mm

      12 mm

      99.9%

      45°

      1000-1060 nm

      Yb:KGW/KYW 1H

      045-1030T12HHR-i0

      50.8 mm

      12 mm

      99.9%

      1000-1060 nm

      Yb:KGW/KYW 1H

      045-1060

      50.8 mm

      8 mm

      99.5%

      45°

      1047-1064 nm

      Nd:YAG 1H

      045-1060-i0

      50.8 mm

      8 mm

      99.8%

      1047-1064 nm

      Nd:YAG 1H

      045-1060T12HHR

      50.8 mm

      12 mm

      99.9%

      45°

      1047-1064 nm

      Nd:YAG 1H

      045-1060T12HHR-i0

      50.8 mm

      12 mm

      99.9%

      1047-1064 nm

      Nd:YAG 1H

       

      基材

      材料

      UV級(jí)熔融石英

      S1表面平整度

      λ/10 typical at 633 nm

      S1表面質(zhì)量

      20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

      S2表面質(zhì)量

      簡單拋光

      直徑公差

      + 0.00 mm, - 0.12 mm

      厚度公差

      ± 0.25 mm

      < 3 minutes

      倒角

      0.3 mm at 45° typical

       

      鍍膜

      技術(shù)

      電子束多層電介質(zhì)或離子束濺射

      附著力和耐久性

      符合MIL-C-675A。 不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑

      通光孔徑

      超過中心直徑的85%

      損壞閾值

      6 J / cm2,8納秒脈沖,典型值1064 nm

      鍍膜表面平整度

      通光孔徑下633 nm處的λ/ 10

      入射角

      0°或45°

       EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
      EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
      EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
      公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
      EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
      公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

      EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
      EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
      EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
      公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
      EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
      公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

       

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