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簡要描述：Eksma 雙波段激光反射鏡-2激光線反射鏡是介電反射鏡，在規(guī)定的激光波長下具有優(yōu)良性能。雙波段激光鏡可用于需要兩條激光線反射的應(yīng)用。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2026-02-07訪 問 量：1835詳細(xì)介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 雙波段激光反射鏡-2
介電雙波段鏡可在規(guī)定的波長（基本和倍頻激光線或基本激光線及其對準(zhǔn)光束）提供99.5％的反射率。
產(chǎn)品介紹
Ø高反射鏡（99.5％反射率）
Ø設(shè)計用于45°或0°入射角
Ø由BK7玻璃或UV級熔融石英制成
Eksma 雙波段激光反射鏡-2
激光線反射鏡是介電反射鏡，在規(guī)定的激光波長下具有優(yōu)良性能。雙波段激光鏡可用于需要兩條激光線反射的應(yīng)用。
我們的激光鏡由BK7或石英制成，并涂有多層介電鍍膜。獲得的高拋光質(zhì)量對于低波前畸變，低散射和高損傷閾值也很重要。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
BK7; ø76.2 x 12.7 mm
型號 | 材料 | D | ET | R, %(S+P)/2 | AOI | 波長 | 應(yīng)用 | ||||||||
057-4080 | BK7 | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 390-410+780-820 nm | Ti:Sa 2H+1H | ||||||||
057-4080-i0 | BK7 | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 390-410+780-820 nm | Ti:Sa 2H+1H | ||||||||
057-5103 | BK7 | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | ||||||||
057-5103-i0 | BK7 | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | ||||||||
057-5306 | BK7 | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | ||||||||
057-5306-i0 | BK7 | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | ||||||||
057-6306 | BK7 | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | ||||||||
057-6306-i0 | BK7 | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | ||||||||
UVFS; ø12.7 x 3 mm 型號 | 材料 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波長 | 應(yīng)用 | ||||||||
061-2635 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 45° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | ||||||||
061-2635-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 0° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | ||||||||
061-2653 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 45° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | ||||||||
061-2653-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 0° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | ||||||||
061-3553 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 45° | 355+532 nm | Nd:YAG 3H+2H | ||||||||
061-3553-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 0° | 355+532 nm | Nd:YAG 3H+2H | ||||||||
061-3506 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 45° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | ||||||||
061-3506-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 0° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | ||||||||
061-4080 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 45° | 390-410+780-820 nm | Ti:Sa 2H+1H | ||||||||
061-4080-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 0° | 390-410+780-820 nm | Ti:Sa 2H+1H | ||||||||
061-5103 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 45° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | ||||||||
061-5103-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 0° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | ||||||||
061-5306 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 45° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | ||||||||
061-5306-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 0° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | ||||||||
061-6306 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 45° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | ||||||||
061-6306-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.5% | 0° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | ||||||||
SUBSTRATE
材料 | BK7 *玻璃或UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度激光質(zhì)量 |
S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì) |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85％ |
損壞閾值 | BK7雙線鏡-1 J / cm2，8 ns脈沖，典型1064 nm |
鍍膜表面平整度 | UVFS雙線反射鏡-2 J / cm2，8 ns脈沖，典型1064 nm |
入射角 | 633 nm處的λ/ 10超過直徑的85％ |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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