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      Eksma FEMTOLINE激光分束器-3

      簡(jiǎn)要描述:Eksma FEMTOLINE激光分束器-3
      Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm。激光損傷閾值:&amp;amp;amp;gt; 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。

      • 產(chǎn)品品牌:Eksma
      • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
      • 更新時(shí)間:2026-02-07
      • 訪  問  量:1415

      詳細(xì)介紹

      品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
      組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

      Eksma FEMTOLINE激光分束器-3


      Eksma FEMTOLINE激光分束器-3

      Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm。激光損傷閾值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。

      分束器將平均偏振激光束分成彼此分開90°的兩束。

      標(biāo)準(zhǔn)基板厚度為3mm。如果您需要更薄的基板,請(qǐng)從Precision Thin Round Windows中選擇。

       

      EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
      EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
      EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

      公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

      我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

      EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

      公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

      該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

      產(chǎn)品型號(hào)

      UVFS;ø12,7x3mm, 400 nm

      型號(hào)

      材料

      尺寸

      波長(zhǎng)

      反射

      透射

      偏振

      AOI

      041-7820A

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      20±3%

      80±3%

      Average

      45°

      041-7820P

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      20±3%

      80±3%

      P-pol

      45°

      041-7820S

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      20±3%

      80±3%

      S-pol

      45°

      041-7830A

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      30±3%

      70±3%

      Average

      45°

      041-7830P

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      30±3%

      70±3%

      P-pol

      45°

      041-7830S

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      30±3%

      70±3%

      S-pol

      45°

      041-7850A

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      50±3%

      50±3%

      Average

      45°

      041-7850P

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      50±3%

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      P-pol

      45°

      041-7850S

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      50±3%

      50±3%

      S-pol

      45°

      041-7870A

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      70±3%

      30±3%

      Average

      45°

      041-7870P

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      70±3%

      30±3%

      P-pol

      45°

      041-7870S

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      70±3%

      30±3%

      S-pol

      45°

      041-7880A

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      80±3%

      20±3%

      Average

      45°

      041-7880P

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      80±3%

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      P-pol

      45°

      041-7880S

      UVFS

      ø12.7 x 3 mm

      400 nm

      80±3%

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      S-pol

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      042-7820A

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      20±3%

      80±3%

      Average

      45°

      042-7820P

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      20±3%

      80±3%

      P-pol

      45°

      042-7820S

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      20±3%

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      S-pol

      45°

      042-7830A

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      30±3%

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      Average

      45°

      042-7830P

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      30±3%

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      P-pol

      45°

      042-7830S

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      30±3%

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      S-pol

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      042-7850A

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      50±3%

      50±3%

      Average

      45°

      042-7850P

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      50±3%

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      P-pol

      45°

      042-7850S

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      50±3%

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      S-pol

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      042-7870A

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      70±3%

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      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

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      P-pol

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      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      70±3%

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      S-pol

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      042-7880A

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      80±3%

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      Average

      45°

      042-7880P

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      80±3%

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      P-pol

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      042-7880S

      UVFS

      ø25.4 x 3 mm

      400 nm

      80±3%

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      S-pol

      45°

      045-7820A

      UVFS

      ø50.8 x 8 mm

      400 nm

      20±3%

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      Average

      45°

      045-7820P

      UVFS

      ø50.8 x 8 mm

      400 nm

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      P-pol

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      045-7820S

      UVFS

      ø50.8 x 8 mm

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      S-pol

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      045-7830A

      UVFS

      ø50.8 x 8 mm

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      UVFS

      ø50.8 x 8 mm

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      ø50.8 x 8 mm

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      S-pol

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      045-7850A

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      ø50.8 x 8 mm

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      50±3%

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      UVFS

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      ø50.8 x 8 mm

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      ø50.8 x 8 mm

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      ø50.8 x 8 mm

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      80±3%

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      Average

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      045-7880P

      UVFS

      ø50.8 x 8 mm

      400 nm

      80±3%

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      045-7880S

      UVFS

      ø50.8 x 8 mm

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      80±3%

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      S-pol

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      基材

      材料

      UV級(jí)熔融石英

      S1表面平整度

      633 nm時(shí)為λ/ 10

      S1表面質(zhì)量

      20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

      S2表面平整度

      633 nm時(shí)為λ/ 10

      S2表面質(zhì)量

      20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

      直徑公差

      +0.00mm-0.12mm

      厚度公差

      ±0.25

      平行性

      30弧秒

      倒角

      在45°典型值為0.3mm

       

      鍍膜

      技術(shù)

      電子束多層電介質(zhì)

      附著力和耐久性

      符合MIL-C-675A。 不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑

      通光孔徑

      超過中心直徑的85%

      入射角

      45±3°

      背面防反射鍍膜

      R <0.5%

      激光損傷閾值

      > 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

      EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
      EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
      EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

      公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

      我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

      EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

      公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

      該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

      EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
      EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
      EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

      公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

      我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

      EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

      公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

      該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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